ГлавнаяО компании Продукция Технологии ЦеныКонтакты
Производство и разработка вакуумного оборудования
Мы в соц. сетях
Наш телефон
8(800)222-90-33
с 10 до 19 часов по МСК
Электронная почта

Написать нам

Ионный источник многоячеечный – ускоритель с анодным слоем

Ионный источник в Москве предлагаем заказать собственного производства ООО «Дана Инжиниринг». Мы создаем качественное оборудование в соответствии с вашими задачами на предприятии. При этом сохраняем доступные цены. Вы можете выбрать источники высоко- или низкоэнергетические. Источник ионного излучения на основе современной магнитной системы с ускорителем с анодным слоем. Основное назначение оборудования – создание тонких металлических пленок, диэлектриков, полупроводников путем стандартного и реактивного ионного лучевого распыления.
Задать вопрос специалисту
Ионный источник многоячеечный – ускоритель с анодным слоем
Установка вакуумного напыленияВакуумная камераУниверсальный вакуумный постВакуумная установкаВакуумные исследовательские установкиВакуумная станцияКомплектующие производства
Всегда готовы помочь

Ионный источник многоячеечный в Москве

Принцип действия заключается в формировании плазмы в процессе ионизации газа в разряде в магнитном и электрическом полях, когда они скрещиваются. После этого ионы отбираются с плазмы и ускоряются электрополем. Стенки канала из металла под катодным потенциалом. В кольцевом зазоре создается радиальное поле, спадает в аноде и у апертуры.

Магнитное поле получается с поперечной компонентой, электрическое – с продольной. В скрещенных полях работает сила Лоренца, в результате чего оно дрейфует в азимут. В кольцевом зазоре образуется двойной электрический слой. Электроны в таких условиях ограничены в движении, а электрическое поле ускоряет ионы вдоль оси.

Двухлучевой источник создает 2 ионных пучка. Один из них распыляет материал мишени, другой – очищает подложки ионами и осуществляет ассистирование. Многоячеечный источник создает 21 пучок. Использовать ионный источник можно долго без его чистки. Нужно только иногда очищать апертуру от загрязнений, чтобы предотвратить искажение и дужение пучка. Для этого оборудование разбирать не понадобится.

Ионный источник

Применение и характеристики

Многоячеечный ионный источник получил широкое применение в различных областях:

  • распыление ионно-лучевое;
  • распыление двойное;
  • распыление реактивное;
  • ассистирование при нанесении слоев с испарителями;
  • распыление магнетронное;
  • очистка поверхности на предварительном этапе;
  • создание пленки-подложки (перемешивание);
  • травление с применением химических газов.

Технические характеристики

Анодное напряжение 800-6000
Ток заряда До 300 мА
Ток пучка До 250 мА
Энергия ионов 300-2000
Рабочее давление 0,01-0,06 ПА
Диаметр мишени 80 мм
Расход газа До 40 мл/мин

Вы можете заказать ионный источник с ускорителем с анодным слоев, который полностью соответствует нормам безопасности в компании ООО «Дана Инжиниринг». Для этого достаточно связаться с нашим специалистом через обратную форму на сайте или по телефону 8(800)222-90-33

ОСТАЛИСЬ ВОПРОСЫ ИЛИ НУЖНА КОНСУЛЬТАЦИЯ?
Оставьте свой вопрос или позвоните нам по телефону, и мы с удовольствием проконсультируем Вас.
Наши партнеры
ООО «Рефлакс»

ООО «Рефлакс» предлагает Вам широкий ассортимент высокоэффективных и экономичных газоразрядных ламп высокого давления собственного производства

www.reflux.ru
ЗАО «ИНТЕК АНАЛИТИКА»
Поставка вакуумного и криогенного оборудования с сопутствующими услугами (расчет вакуумных
систем, пуско-наладка, сервисное обслуживание)
www.intech-group.ru
Busch Vacuum Pumps and Systems
Компания Busch Vacuum Pumps and Systems является одним из самых крупных производителей
вакуумных насосов, воздуходувок и компрессоров в мире.
www.buschvacuum.com
Контакты
ООО «Дана Инжиниринг»
Производство и разработка вакуумного оборудования
ПН-ПТ: 10:00-19:00
СБ-ВС: Выходной
111524 Россия Московская область
Москва ул. Перовская, д.1, стр.22

2023, Разработано в