Характеристики:

Объем камеры: 14 м³

Предельное остаточное давление без объекта испытания, но с навесным внутрикамерным оборудованием: 5*10^-6 мбар

Нагрев объекта испытаний до 90°С

Предназначение: установка подходит для термовакуумных испытаний как отдельных узлов, так и аппаратов целиком

Конструктивно установка вакуумного напыления выполнена в виде кубической вакуумной камеры, установленной на монтажной раме. Отдельно установлена стандартная 19-ти дюймовая телекоммуникационная стойка с источниками питания, контроллерами и управляющим компьютером, а также чиллер охлаждения.

Устройство напыления металлов - магнетрон постоянного тока (МРС)

Предельное остаточное давление в камере напыления составит 10^-6 торр

Вакуумная технологическая установка электронно-лучевого распыления для получения оптических покрытий.

Высокая равномерность покрытия по толщине 2% достигается за счет сферического планетарного подложкодержателя.  Криогенная откачка позволяет проводить процесс при высоком вакууме 10-6мбар. За счет ионного ассистирования покрытие получается более плотным и имеют более однородные свойства по толщине, лучшую адгезию и меньшее внутреннее напряжение.

Результат: после введения в эксплуатацию производительность установки выросла в 2 раза по сравнению с предыдущей установкой. Улучшились оптические показатели, улучшилась адгезия. Надежность установки обеспечивается автоматикой.

Вертикально-цилиндрическая камера объемом 6м³;
Протяженные магнетроны с зоной равномерного напыления 1600мм;
Оснастка: планетарный держатель подложек.
Цикл напыления: 40мин.
Результат:
Производительность участка напыления на АБС-пластик возросла в 3 раза при введении в
эксплуатацию вакуумной установки напыления;
Снижены производственные издержки;
Увеличен межсервисный интервал за счет использования современных комплектующих.

Расположение подложки: горизонтальное/вертикальное.
Описание:
Шлюз загрузки-выгрузки;
Высокая производительность;
Линейная установка конвейерного типа, равномерность напыления <0,5% от толщины покрытия
по всей площади подложки.
Предварительная подготовка подложек:
1 Дегазация прогревом
2.Очистка ионным пучком.
Результат:
Построена производственная линия международного уровня.

Установка предназначена для напыления токопроводящих контактов и многослойных покрытий
различного назначения.
Описание:
4 технологических устройства: 3 магнетрона, 1 ионный источник. 8-позиционный
подложкодержатель.
Диаметр мишени – 50 мм.
Тип мишени – проводящие материалы.
Результат:
Установка внедрена для отработки технологии мелкосерийного производства.

Описание:
Вакуумная камера напыления колпакового типа с приводом вертикального перемещения.
Технологические устройства: магнетрон, ионный источник, карусельный подложкодержатель.
Результат:
Установка запущена в лаборатории университета для изучения процессов напыления металлов.

Описание:
Вакуумный объем переменной длины, имеющий 4 степени свободы и прецизионный держатель
образцов.
Уровень вакуума – 10^-4 Па
Точность позиционирования по углам - ±5"
Точность позиционирования образцов по координатам XZ- ±2мкм

Уровень вакуума – 10^-2 Па
Материал детекторной камеры – алюминиевый сплав АМг3
Механизированные системы перемещения в вакууме
Координатный столик образца
Общая длина прибора – 11 м
Диаметр исследовательской камеры – 1600 мм

Вакуумная камера с оптическим столом и источниками плазмы.
Магнитное поле ~3 Тл.
Особенности:
Все узлы и элементы должны быть выполнены из немагнитных материалов
Камера и оптический стол имеют механизированное перемещение.

Вакуум – 10^-5 Па
Дверь быстрой загрузки
Сухая откачка
Специальные оптические элементы
Шероховатость стенок – Ra 0,8