ГлавнаяО компании Продукция Технологии ЦеныКонтакты
Производство и разработка вакуумного оборудования
Мы в соц. сетях
Наш телефон
8(800)222-90-33
с 10 до 19 часов по МСК
Электронная почта

Написать нам

Плазмохимическое осаждение в Москве

Технология плазмохимического осаждения – это способ формирования тонкопленочного покрытия из газовой фазы, применяющий плазменный разряд с целью разложения реакционного газа на активные радикалы.

Задать вопрос специалисту
Плазмохимическое осаждение

Плазмохимическое осаждение в Москве

Во время плазмохимического осаждения реакционный газ, который подает в камеру, диссоциируется в разряде, а образовавшиеся радикалы вступают в реакцию с поверхностью подложки и создают тонкопленочное покрытие. Ярко выраженной особенностью описываемого способа является низкая температура процесса (КТ-400 С°). Данный факт положительно отражается на скорости процесса.

Метод плазмохимического осаждения является функциональным и высококачественным с широким спектром выбора материалов и возможностей по получаемым свойствам пленки.

Для стимуляции процесса газофазного осаждения главными генераторами плазмы могут стать многопрофильные устройства, начиная от диодного ВЧ-разряда и до СВЧ устройств на ЭЦР (электронно-циклотронном резонансе). Первостепенная задача данных устройств – повышенная диссоциация рабочего газа в реакторе для снижения необходимого расхода рабочего газа при высоких скоростях осаждения. Кроме того, плазменная стимуляция способствует снижению рабочего давления в реакторной камере.

Снижение рабочей температуры процесса вплоть до комнатной и возможности использовать другой газовый состав, например азот вместо аммиака при осаждении нитрида кремния, что весьма положительно сказывается на живучести систем газонапуска и откачных средств.

При этом устройства для плазменной стимуляции обязаны обеспечивать равномерность нанесения слоев, что бывает трудновыполнимо из-за некоторых факторов, которые могут изменять локальную скорость осаждения тонких слоев на пластинах большого размера.

Важным фактором влияния на равномерность наносимого покрытия является однородность концентрации плазмы над поверхностью используемой подложки.

Вакуумное оборудование с применением данной технологии:

ОСТАЛИСЬ ВОПРОСЫ ИЛИ НУЖНА КОНСУЛЬТАЦИЯ?
Оставьте свой вопрос или позвоните нам по телефону, и мы с удовольствием проконсультируем Вас.
Наши партнеры
ООО «Рефлакс»

ООО «Рефлакс» предлагает Вам широкий ассортимент высокоэффективных и экономичных газоразрядных ламп высокого давления собственного производства

www.reflux.ru
ЗАО «ИНТЕК АНАЛИТИКА»
Поставка вакуумного и криогенного оборудования с сопутствующими услугами (расчет вакуумных
систем, пуско-наладка, сервисное обслуживание)
www.intech-group.ru
Busch Vacuum Pumps and Systems
Компания Busch Vacuum Pumps and Systems является одним из самых крупных производителей
вакуумных насосов, воздуходувок и компрессоров в мире.
www.buschvacuum.com
Контакты
ООО «Дана Инжиниринг»
Производство и разработка вакуумного оборудования
ПН-ПТ: 10:00-19:00
СБ-ВС: Выходной
111524 Россия Московская область
Москва ул. Перовская, д.1, стр.22
2019, Разработано в